半导体、微电子、光伏等行业随着产品工艺越来越先进、生产中使用的超纯水也是产品合格率的重要组成部分。因此对纯水水质要求也越来越高，比如单晶硅、多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、5G产品及各种元器件等生产工艺用纯水基本是18.25MΩ﹒cm范围的水质要求。

工艺流程

1、传统制水工艺（预处理+阴阳混床+抛光混床）

 CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->--中间水箱--粗混合床--精混合床--纯水箱--纯水泵--紫外线杀菌--抛光混床--精密过滤 --用水对象（18MΩ/CM）

2、正规制水工艺：（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床）

    CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->2-RO-->EDI-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点

3、高品质水制水工艺：（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+纯水脱氧系统+抛光混床+生物膜过滤）

    CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO系统-->2-RO系统-->EDI-->MDG-->TOC-UV-->抛光混床系统-->生物膜过滤系统-->用水点