半导体、微电子、光伏等行业随着产品工艺越来越先进、生产中使用的超纯水也是产品合格率的重要组成部分。因此对纯水水质要求也越来越高，比如单晶硅、多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、5G产品及各种元器件等生产工艺用纯水基本是18.25MΩ﹒cm范围的水质要求。
工艺流程
1. 传统制水工艺：（预处理+阴阳混床）
CWS-->MMF-->ACF-->KCF-->净水箱-->混床(复床)-->纯水箱-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点
2.极减制水工艺：（预处理+一级反渗透+阴阳混床）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一级RO反渗透系统-->混床(复床)-->纯水箱-->纯水输送泵-->精密过滤-->用水点
3.简配制水工艺：（预处理+一级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床系统）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一级RO反渗透系统-->EDI电除盐系统-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点
4.正规制水工艺：（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+抛光混床）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->2-RO-->EDI-->纯水箱->纯水输送泵-->抛光混床系统-->精密过滤-->用水点
5.高品质水制水工艺：（预处理+二级反渗透+EDI电除盐系统+纯水脱氧系统+抛光混床+生物膜过滤）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO系统-->2-RO系统-->EDI-->MDG-->TOC-UV-->抛光混床系统-->生物膜过滤系统-->用水点
微信扫码沟通
